挑戰台積電、ASML！美新創開發 X 光曝光技術，有望顛覆高價 EUV 晶片製造

美國新創公司 Substrate 週二（28 日）透露，他們已開發出一款晶片製造工具，有能力與荷蘭半導體設備龍 […]...