或改變晶片製造的新技術「電子浴」，解決薄膜電子學挑戰

高功率脈衝磁控濺射（HiPIMS）最近取得重要進展，新技術暫稱為「電子浴」，有潛力改變晶片生產，並提高微電子元 […]...