← 科技新報報導科技新報Rapidus 北海道廠分四階段安裝 EUV 曝光機,拚 2027 年量產作者 林妤柔2024/12/19 10:33#半導體23 家 · 234 篇#晶片22 家 · 131 篇#材料、設備1 家 · 11 篇#ASML3 家 · 4 篇#EUV 設備1 家 · 2 篇#Rapidus2 家 · 3 篇日本半導體新創 Rapidus 成為日本首間獲得極紫外線(EUV)曝光設備的公司,目前已開始在北海道千歲市在建 […]...https://technews.tw/2024/12/19/rapidus-asml-euv-machine/