科技新報

ASML 推 High-NA EUV 樂高模型,851 個零件復刻全球最貴曝光機

作者 林妤柔

全球半導體設備龍頭 ASML 宣布將旗下最先進曝光機「樂高化」,推出 High-NA EUV 曝光機 Twin […]...