← 科技新報報導科技新報有助節省成本,三星成功減少 3D NAND 曝光製程光阻劑用量作者 林妤柔2024/11/27 18:34#Samsung5 家 · 15 篇#材料、設備1 家 · 15 篇#記憶體9 家 · 22 篇#3d nand#Dongjin Semichem#三星20 家 · 59 篇#光阻劑韓媒 TheElec 報導,三星已成功大幅減少 3D NAND 快閃記憶體生產過程中曝光製程所使用的光阻劑(P […]...https://technews.tw/2024/11/27/samsung-pr-3d-nand-lithography/