科技新報

有助節省成本,三星成功減少 3D NAND 曝光製程光阻劑用量

作者 林妤柔

韓媒 TheElec 報導,三星已成功大幅減少 3D NAND 快閃記憶體生產過程中曝光製程所使用的光阻劑(P […]...