科技新報

2030 年全球晶圓廠 EUV 每年耗電量,將超過新加坡或希臘用電總合

作者 Atkinson

雖然,極紫外光 (EUV) 微影曝光技術是未來幾年現代半導體製程技術不可或缺的關鍵。然而,每台 EUV 設備消 […]...