紀念性一刻！ASML 最新 High-NA EUV，成功印首條 10 奈米密集線

作者林妤柔2024/4/18 16:28

ASML 宣布首款採用 0.55 數值孔徑（High-NA）EUV 曝光設備已列印出第一個圖案。根據最新貼文， […]...