科技新報

ASML：數值孔徑 0.75 超高 NA EUV 微影曝光設備 2030 年來到

作者 Atkinson

根據日本媒體報導，微影曝光設備龍頭艾司摩爾 (ASML) 執行副總裁 Christophe Fouquet 近 […]...

https://technews.tw/2023/06/20/0-75-numerical-aperture-ultra-high-na-euv-lithography-tool-coming-in-2030/