科技新報

中國 7 奈米以下晶片有救?華為秀 EUV 光刻技術,外媒不看好

作者 林妤柔

為了降低美國晶片限令影響,華為 11 月秀出新極紫外光(EUV)光刻新技術專利,暗示生產 7 奈米以下晶片的可 […]...