科技新報

半導體先進製程必備 AMC 防治!濾能預計 6 月下旬掛牌上櫃

作者 姚惠茹

濾能董事長黃銘文今日表示,當半導體走向 3 奈米先進製程,對於無塵室 AMC 微污染控制的要求就越高,因此隨著 […]...