← 科技新報報導科技新報這設備 30 年前問世至今仍在使用,助 ASML 登上半導體微影曝光龍頭作者 Atkinson2021/5/16 10:30#IC 設計1 家 · 16 篇#公司治理1 家 · 46 篇#國際觀察1 家 · 32 篇#晶圓10 家 · 48 篇#晶片19 家 · 98 篇#材料、設備1 家 · 17 篇#處理器2 家 · 21 篇#零組件1 家 · 59 篇#半導體設備1 家 · 4 篇#微影曝光不論是極紫外光微影曝光設備 (EUV) 或是深紫外光微影曝光設備( DUV),當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體 […]...https://finance.technews.tw/2021/05/16/asml-pas-5500/