← 科技新報報導科技新報關鍵萊利公式,扮演先進半導體製程微縮重要基礎作者 Atkinson2019/10/15 15:00#國際貿易3 家 · 55 篇#奈米3 家 · 22 篇#尖端科技1 家 · 7 篇#材料、設備1 家 · 9 篇#零組件3 家 · 43 篇#半導體8 家 · 82 篇#微影曝光設備#艾司摩爾2 家 · 4 篇#萊利公式#製程2 家 · 2 篇#設備3 家 · 5 篇半導體講求製程微縮,生產的晶片有更小體積、更好效能之外,也有更優異的耗能表現。而在製程微縮的需求下,微影曝光設 […]...http://technews.tw/2019/10/15/rayleigh-criterion/