科技新報

半導體先進製程發展擴大 EUV 市場需求，ASML 可望持續受惠

作者 拓墣產研

先進製程奈米節點持續微縮下，光刻機是重要關鍵設備。12 吋晶圓主要光刻機為 ArF immersion 機台， […]...

http://technews.tw/2019/06/10/euv-is-asml/