太報

聯電宣布推出14奈米eHV FinFET平台 助力新世代手機顯示技術創新 - 太報 TaiSounds

未署名
聯電宣布推出14奈米eHV FinFET平台 助力新世代手機顯示技術創新 - 太報 TaiSounds(新聞配圖)
配圖來源:太報

晶圓代工廠聯電今(5/14)日宣布推出用於顯示驅動IC的14奈米嵌入式高壓(eHV)FinFET技術平台,並可提供製程設計套件(PDK)供客戶進行設計導入。此全新製程已於聯電12A廠完成驗證,可提升電源效率與效能,同時縮小晶片尺寸,助力新一代顯示技術的發展。...