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中國宣稱實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片

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中國宣稱實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片(新聞配圖)
配圖來源:太報

中國工信部近日公布一項通知顯示,中國已取得重大技術突破,研發出深紫外光曝光機(DUV),可生產8奈米及以下晶片,目前正在推廣應用。...