稱中國拚自製EUV還差15年 ASML關鍵供應商示警：美國愈封鎖恐追得愈快

美中半導體競賽持續升溫，ASML 關鍵供應商、德國光學大廠蔡司（ZEISS）高層指出，中國要自主研發出最先進的極紫外光（EUV）微影設備，可能仍需約 15 年時間，直言其與全球頂尖技術仍有明顯差距；但也警告，持續擴大出口限制，反而可能加快中國半導體設備自主化腳步。據《彭博》報導，蔡司半導體部門技術長...