輝達新晶片帶動「冷革命3.0」外資按讚台散熱三雄水冷工藝

未署名2025/10/3 23:33

輝達AI晶片再創功耗新高，帶動液冷技術需求持續攀高。TrendForce指出今年液冷技術在AI資料中心的滲透率將大幅提升至33%。外資券商指出，台廠奇鋐有機會為輝達Ultra機型提供微通道冷板技術。此外雙鴻、健策等台系散熱大廠，亦全力與國際客戶合作開發中。...