國研院兩半導體新技術 登國際會議焦點論文

國家實驗研究院奈米元件實驗室以「奈米級菱形鍺高速通道技術」、「原子級二硫化鉬二維通道技術」等兩項次5奈米世代前瞻元件技術研發為主的6篇論文，獲選於2015年底舉行、全球最重要之頂尖電子元件國際會議「國際電子元件會議」（ IEDM）中發表，其中兩篇更獲選為大會的焦點論文。...