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華為上海研發中心建造中：進軍開發光刻機，挑戰巨頭 ASML

作者 Sisley

華為將自行研發光刻機，衝刺 14nm/16nm 晶片製造！...

https://www.inside.com.tw/article/34733-huawei-r-and-d-center-lithography-fab-equipment