imec突破High-NA EUV極限光阻材料將一路延續至埃米世代

署名鉅亨網記者魏志豪台北9/13 13:37

比利時微電子研究中心(imec)宣布攜手ASML及材料供應商，在High-NA EUV微影技術再取得進展。將產業沿用多年的化學放大阻劑(CAR)，完成22奈米間距導線的單次圖形化，並驗證多種接近實際晶片設計的複雜結構，顯...