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《富比士》EUV霸權恐被打破?「這些技術」或2030年前重塑先進晶片製造

署名 鉅亨網編譯莊閔棻

AI 晶片需求持續升溫,全球半導體業正尋找 EUV 極紫外光微影以外的新方案。原子微影、X 射線微影、xLight 技術與中國半導體架構陸續崛起,最快 2030 年前可能改變先進晶片製造格局。...