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應材發布電晶體與佈線創新技術 加速AI晶片效能

應用材料 (AMAT-US) 今 (12) 日宣布推出全新的沉積、蝕刻及材料改質系統,能在 2 奈米及更先進節點提升尖端邏輯晶片效能。這些技術透過對電晶體進行原子尺度改良,從而大幅提升人工智慧 (AI) 的運算能力。...