繞開歐美專利技術封鎖？中國科學院研發新的DUV光源技術 理論上可支援3奈米節點

中國半導體設備研發出現最新突破，中國科學院 (CAS) 近日成功研發突破性的固態深紫外 (DUV) 雷射，光源波長是 193nm，與目前主流的 DUV 曝光波長一致，能將半導體工藝推進至 3 奈米，並跟艾司摩爾(ASML)、佳能、尼康的方式不一樣。 中國科學院的科研團隊近日在《國際光電工程學會》期...