鉅亨網美光宣布在日本引進EUV 未來數年投資額上看37億美元
署名 鉅亨網編譯余曉惠
美光周四 (18 日) 宣布，未來數年將在日本為極紫外光 (EUV) 微影技術投資多達 5000 億日元 (37 億美元)，將用於 1 gamma 製程，日本政府也將提供支援。 美光引進的最新 EUV 設備可製造最先進 DRAM 製程 1 gamma，可用來量產影像處理網路等複雜應用所需...
美光周四 (18 日) 宣布，未來數年將在日本為極紫外光 (EUV) 微影技術投資多達 5000 億日元 (37 億美元)，將用於 1 gamma 製程，日本政府也將提供支援。 美光引進的最新 EUV 設備可製造最先進 DRAM 製程 1 gamma，可用來量產影像處理網路等複雜應用所需...