一台83億！ASML「天價EUV曝光機」，將掀資本支出大戰

半導體先進製程關鍵之一就是曝光設備。一方面曝光設備佔所有先進製程製造設備成本22%左右，也佔製造工時20%左右，另一方面，全球僅荷商艾司摩爾（ASML）生產先進極紫外光曝光設備（EUV），EUV又是進入10奈米以下先進製程的必備關鍵。...