← 中央社報導中央社台積電才喊貴 ASML估High NA EUV製晶片數月內見未署名5/19 21:32配圖來源:中央社世界頂尖半導體生產設備製造商艾司摩爾(ASML)執行長福克今天說,預期幾個月內可看到使用其新一代微影設備高數值孔徑(High NA)極紫外光(EUV)機製造的首批產品問世。...https://www.cna.com.tw/news/afe/202605190376.aspx