東芝攻克 SiC MOSFET 電壓漂移,長期可靠性再提升

蘇子芸全文約 950 字
東芝攻克 SiC MOSFET 電壓漂移,長期可靠性再提升(新聞配圖)
配圖來源:科技新報

東芝持續推進碳化矽(SiC)功率半導體技術,宣布開發溝槽閘極(Trench-gate)SiC MOSFET 臨界電壓(Vth)漂移抑制技術,可將 Vth 漂移幅度降至市售溝槽閘極 SiC MOSFET 約 50%,提升元件長期可靠性,鎖定電動車、再生能源及資料中心電源等應用。...